Preform סיבים אופטיים

תהליך MCVD מתייחס לשיטת השקיעה הכימית המשופרת, המורכבת משני שלבי תהליך של שקיעה והתכווצות (יצירת מוט). השקיעה היא לחמם את צינור התגובה הקוורץ האיכותי שהוכן מראש עם להבת חמצן מימן, להשתמש בחמצן בטוהר גבוה כגז נשא, להכניס חלק מסוים של SiCl4 ו-GeCl4 בטוהר גבוה לצינור התגובה של הקוורץ, ולהגיב ליצירת SiO2 וחלקיקים מולקולריים קטנים מסוג GeO2, המופקדים על הדופן הפנימית של צינור התגובה הקוורץ על פי עקרון התרמופורזה. התכווצות נמס היא להמיס ולכווץ את צינור זכוכית הקוורץ החלול שהופקד לתבנית סיב אופטי מוצק על ידי החדרת גז כלור. התהליך הוא גמיש בפעולה, יכול לשלוט במדויק על זרימת חומרי הגלם ומספר שכבות התצהיר, ויכול לייצר פרפורמים של סיבים אופטיים עם פרופיל מקדם שבירה עדין, אשר תורם לשליטה בביצועי סיבים אופטיים.

תהליך VAD מתייחס לשיטת שקיעת אדים צירית. התהליך הוא אידוי חומר הגלם בתנאי חימום של להבת חמצן מימן, והידרוליזה בלהבה ליצירת חלקיקי SiO2 ו-GeO2. חלקיקים אלה מופקדים על המוט הראשוני הצירי, והתפלגות אינדקס השבירה מותאמת על ידי בקרת טמפרטורת השקיעה, מהירות, קצב זרימת הגז, מבנה ההזרקה וגורמים אחרים. לאחר התייבשות וסינטר, מולקולות המים ורדיקלי ההידרוקסיל באזור הליבה של הפרפורם מוסרות ליצירת ליבת preform שקופה. לתהליך זה יש את היתרונות של מהירות ויעילות גבוהה של שיקוע, לא קל לערבב זיהומים, אקסצנטריות קטנה של הליבה והחיפוי וכלכלה טובה.

תהליך OVD מתייחס לשיטת השקעת אדים מחוץ לצינור. בדומה לעקרון VAD, חומרי גלם עוברים גזים בתנאי חימום של להבת מימן וחמצן, ותגובת הידרוליזה מתרחשת בלהבה ליצירת חלקיקים. חלקיקים אלה מופקדים על פני השטח החיצוניים של המוט הראשוני. לאחר הגעה לגודל מסוים והסרת המוט הראשוני, הפרפורם החלול מיובש ומסינטר ליצירת פרפורם מוצק שקוף. היתרונות של תהליך זה הם שהתהליך קל לשליטה, יעילות הייצור גבוהה, והוא מתאים לייצור פרפורמים לסיבים אופטיים בגודל גדול.

תגיות פופולריות: אופטי סיבים preform